據(jù)電子材料市場研究與咨詢服務公司TECHCET預測，2021年半導體制造所需的光刻膠市場規(guī)模將同比增長11%，達到19億美元。從抗蝕劑類型來看，2020年和2021年的光刻膠市場，用于KrF和浸入式ArF的光刻膠市場較高。對于EUV，應用范圍正在從邏輯芯片擴展到DRAM。2021年的EUV光刻膠市場將超過2000萬美元，并且此后還將繼續(xù)增長，預計到2025年將超過2億美元。

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　　據(jù)科技媒體3月12日 報道，韓國Dongjin Semichem和ENF Technology兩家公司均已向客戶三星電子和SK海力士提出關于稀釋劑的漲價要求，據(jù)悉，兩家韓國公司計劃從四月份起將稀釋劑的價格提高50%。

　　稀釋劑主要用于去除晶圓和顯示器制造過程中噴涂的光阻劑殘余物。制作過程是先將環(huán)氧丙烷（PO）加工成丙二醇單甲醚（PGME）和丙二醇甲基醚乙酸酯（PGMEA），之后再制為稀釋劑。

　　從2020年初到年底，環(huán)氧丙烷的價格上漲了90%。同期丙二醇單甲醚和丙二醇甲基醚乙酸酯的價格也上漲了80%。除此之外，受美國得州突發(fā)暴風雪影響，陶氏化學（Dow Chemical）關閉了位于當?shù)氐沫h(huán)氧丙烷生產(chǎn)工廠，從而導致該種材料價格進一步上漲。