此前報道：

　　據(jù)Wccftech報道，臺積電將把今年的資本支出增加到220億美元，這將比2020年增長30%。現(xiàn)在臺積電正忙于提高先進制程的產能，來鞏固其在全球半導體領域的領先地位。

　　臺積電計劃2021年將5nm工藝制造的產能提高至10萬片/月，這數(shù)字高于市場此前的預期。由于采購極紫外光（EUV）光刻機的成本較高，臺積電原計劃2021年將撥出200億美元的資本支出，其中大部分將針對擴大5nm生產、開發(fā)3nm的設施以及研發(fā)2nm工藝節(jié)點。

　　在11月份，臺積電獲得了1250億新臺幣的營收，根據(jù)相關機構預測，2020年12月臺積電的營收達到1305億新臺幣，這將是月度營收首次超過1300億新臺幣。臺積電在2020年前11個月賺取1.2萬億新臺幣，同比增長26.4%，其中11月營收同比增長15.7%，季比增長4.7%。臺積電勢頭有點不可阻擋，今年很大可能將保持這一增長勢頭，預計今年營收將達1.5萬億新臺幣。

　　由于生產難度增大，5nm及以下節(jié)點在制造上需要大量使用EUV光刻機。數(shù)據(jù)顯示，臺積電的晶圓廠目前5nm的產能是每個月6萬片，預計今年下半年臺積電會把這個數(shù)字提高到每月10萬片。在3nm工藝節(jié)點上，初期產能將在每月1萬到3萬片之間，一旦工藝制造成熟，那么產能將可能超過5nm。